Plasma developable photoresist systems based on chemical amplification.

نویسندگان
چکیده

برای دانلود باید عضویت طلایی داشته باشید

برای دانلود متن کامل این مقاله و بیش از 32 میلیون مقاله دیگر ابتدا ثبت نام کنید

اگر عضو سایت هستید لطفا وارد حساب کاربری خود شوید

منابع مشابه

designing unmanned aerial vehicle based on neuro-fuzzy systems

در این پایان نامه، کنترل نرو-فازی در پرنده هدایت پذیر از دور (پهپاد) استفاده شده است ابتدا در روش پیشنهادی اول، کنترل کننده نرو-فازی توسط مجموعه اطلاعات یک کنترل کننده pid به صورت off-line آموزش دیده است و در روش دوم یک کنترل کننده نرو-فازی on-line مبتنی بر شناسایی سیستم توسط شبکه عصبی rbf پیشنهاد شده است. سپس کاربرد این کنترل کننده در پهپاد بررسی شده است و مقایسه ای ما بین کنترل کننده های معمو...

Plasma-surface Interactions of Model Polymers for Advanced Photoresist Systems

Title of Document: PLASMA-SURFACE INTERACTIONS OF MODEL POLYMERS FOR ADVANCED PHOTORESIST SYSTEMS Sebastian Ulrich Engelmann, Doctor of Philosophy, 2008 Directed By: Professor Gottlieb S. Oehrlein, Department of Material Science and Engineering Plasma processing of advanced photoresist (PR) materials is a critical step in nano-manufacturing. We have studied the interactions of PRs and polymers ...

متن کامل

Block copolymer-templated chemical nanopatterning on pyrolyzed photoresist carbon films.

Block copolymer nanolithography has been extended to the nanopatterning of organic functionalities on pyrolyzed photoresist carbon films (PPFs) via diazonium chemistry, using PS-b-P4VP as the template.

متن کامل

Planar Bisector CurvesBased on Developable

This paper presents an algorithm to compute the bisector curve of two planar paramet-ric curves. We reduce the problem of computing a bisector curve to that of intersecting two developable surfaces. Given an input curve C (t) = (x(t); y(t)), the corresponding developable surface D C(t) is constructed symbolically as the envelope surface of a one-parameter family of tangent planes of the parabol...

متن کامل

Chemical shift anisotropy amplification.

A new NMR experiment which allows a measurement of the chemical shift anisotropy (CSA) tensor under magic angle spinning (MAS) is described. This correlates a fast MAS spectrum in the omega2 dimension with a sideband pattern in omega1 in which the intensities mimic those for a sample spinning at a fraction of the rate omega r/N, and these sidebands result from an amplification by a factor N of ...

متن کامل

ذخیره در منابع من


  با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید

ژورنال

عنوان ژورنال: Journal of Photopolymer Science and Technology

سال: 1991

ISSN: 0914-9244,1349-6336

DOI: 10.2494/photopolymer.4.487